曝光流程簡介
步驟一
將內層上覆蓋感光乾墨及底片、使用 UV 光線照射。
步驟二
感光乾墨照射 UV 光線後產生化學反應。
步驟三
將未曝光之區域以顯影藥水去除，留下已曝光之圖案。
步驟四
將裸露銅面已以食刻藥水去掉，留下曝光乾墨圖案。
步驟五
將曝光圖案上之乾膜以去膜要水去除。
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